半導(dǎo)體工業(yè)純水制取用的是反滲透工藝還是去離子
半導(dǎo)體工業(yè)通常使用高純度水,以確保半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)質(zhì)量和性能。在半導(dǎo)體工業(yè)中,常用的水質(zhì)處理工藝包括反滲透(RO)和去離子(DI)工藝,這兩種工藝通常結(jié)合使用,以獲得超高純度水(UPW,Ultra-Pure Water)。
恒大興業(yè)環(huán)保分析,半導(dǎo)體工業(yè)的高純度水制備通常按照以下步驟進(jìn)行:
反滲透(RO)處理:
RO工藝用于去除水中的大部分溶解物質(zhì)和離子。RO膜是半透膜,可以阻止大多數(shù)離子和溶解物質(zhì)通過,從而提高水的純度。
RO處理通常能夠去除大多數(shù)溶解的離子、有機(jī)物和微生物。
去離子(DI)處理:
DI工藝是進(jìn)一步提高水質(zhì)的步驟,通過去除剩余的離子和溶解物質(zhì)來生成高純度水。
常見的DI工藝包括混床離子交換,其中帶有陽離子和陰離子交換樹脂的混床用于去除殘余的離子,確保水的純度達(dá)到要求。
附加處理:
在RO和DI工藝之后,可能會使用一些其他處理步驟,如活性炭過濾、微生物控制和在線監(jiān)測,以確保超高純度水的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
半導(dǎo)體工業(yè)需要極高純度的水,因?yàn)槲⑿〉碾s質(zhì)可以對半導(dǎo)體器件的制造和性能產(chǎn)生重大影響。因此,RO和DI工藝通常結(jié)合使用,以生成符合半導(dǎo)體工業(yè)要求的高純度水。這種高純度水不僅用于洗滌和清洗半導(dǎo)體器件,還用于蝕刻、光刻、電鍍等關(guān)鍵工藝步驟。